AUF Magnetron-Spritzenc$multi-bogen Ionenvakuumbeschichtungs-Maschine für Hardware

 
 
 
1. Hohe Absetzungsrate, hohe Beschichtungsgeschwindigkeit, kann es weit verbreitet sein, die dekorative Beschichtung zu tun, funktionell
 
Beschichten auf einer Produktvielfalt. So ist es eine ideale Ausrüstung, zum der hochwertigen und besten Beschichtung für Masse zu tun
 
Produktion.
 

2. Magnetronspritzenprinzip basiert auf der Theorie der Glimm Kathode, es verbrauchen
 
Kathodenoberflächenmagnetfeld nahe der Werkstückoberfläche. Dann verbessert sie das gespritzte Atom
 
Ionisierungsrate. Sie hält die Magnetronspritzeneinheitlichkeit, kann den glänzenden Oberflächeneffekt auch verbessern.

 
3. Die Bogenplasma-Verdampfungsquelle ist, es kann unter Strom 40A arbeiten zuverlässig, wenn sie die Kathode optimiert
 
und die Magnetfeldstruktur. Sie geschieht Atomdiffusion zwischen der Beschichtung und dem Material. Es
 
hat auch die Vorteile, dass lon Strahl Absetzung unterstützte.

 
4. Staub saugen Sie Pumpsystem, elektrisches Kontrollsystem und komplettes Vakuumanstrichsystem kann sein
 
besonders angefertigt entsprechend Benutzeranforderungen.
 
 

 
 
Er trifft auf Hardware, Glashandwerk, keramisches Handwerk, so wir Uhren, das Handymetalloberteil zu, gesundheitlich
 
Waren, Form, elektronische Produkte, Kristallglas, Gläser, Tischbesteck, Messer und so weiter.
 
Sie können super-harte haltbare Filmbeschichtung, rostfesten Film, dekorativer Film machen (Goldfarbe, stieg
 
Gold, Kaffee, Braun, Bronze, Blau, Schwarzes, Weiß, Grau und andere Farben), kombinierte sie mit dem Magnetronspritzen
 
Technik kann überzogen werden der mehrschichtigen zusammengesetzten Membran und der hergestellte überzogene Edelstahl,
 
Aluminium, Titan, Wolfram und andere Metallfilme werden als überzogenes ZINN, TIC, TICN, TIALN hergestellt möglicherweise,
 
CRN, CU, AU, Diamantfilm (DLC), dekoratives Filmmetall, Film und nicht-metallischer zusammengesetzter Beschichtungsfilm und
 
sein Mittelfilm.
 

Funktions-Prinzip

Vakuummagnetronspritzenbeschichtungsmaschinen-Funktionsprinzip: das so genannte „Spritzen“, die Elektronen herein

ein elektrisches Feld unter der Aktion der Beschleunigung des Prozesses des Fliegens zum Substrat mit Argonatom

Zusammenstoß, Ionisierung heraus große Mengen Argonionen und Elektronen. Das Elektron fliegt in Richtung zum Substrat,

das Argonion beschleunigt das Zielmaterial unter der Aktion des elektrischen Feldes und heraus spritzt ein großes

Zahl des Zielatoms und das neutrale Zielatom (oder das Molekül) wird auf dem Substrat niedergelegt, um zu bilden

Film. Sekundärelektron beim Beschleunigen, zum Substrat durch Magnetfeld bei lorentz zu fliegen

magnetische Kraft, der Einfluss des begrenzten Bereichs nahe dem Zieloberflächenplasma, die Plasmadichte in

Bereich ist sehr hohes, Sekundärelektron unter der Aktion des Magnetfelds um die Zieloberfläche ist

Kreisbewegung, der Elektronbewegungsweg ist, ständig bei Bewegung der Auswirkung sehr lang

Ionisierung heraus große Mengen der Argonionenbombardierung des Ziels, nach vielen Malen des Zusammenstoßes von

Elektronenergie verringert allmählich, weg geworfen dem Joch der Magnetfeldlinien, weg von dem Ziel

Material, die Endlagerung auf dem Substrat.